Description

실험 기구 및 초자 표면의 RNase를 손쉽게 제거할 수 있는 RNA Work의 필수적인 제품

• • 환경을 통해 발생되기 쉬운 RNase contamination 을 효과적으로 제거 가능
• • 안전성 우수 및 후속실험에 미영향
  - 높은 농도의 detergent, 강산 또는 발암성이 있는 DEPC 미사용
• • Ready to use 형태
  - Spray 에 담겨 있어 즉시 사용이 가능함
• • Spray / Rinse or Wipe
  - Cleaning 하고자 하는 표면에 분사 한 뒤 헹구거나 닦아내는 것만으로 오염원 제거 가능
• • 멸균이 어려운 plastic 혹은 유리, pipette 등의 초자에 간편하게 적용 가능
• • RNase 뿐 아니라 원하지 않는 DNA 의 오염 또한 효과적으로 제거할 수 있음

RNase WiPER™는 RNA work 진행 시 실험의 결과에 큰 영향을 미치는 주요 오염원인 RNase를 실험대, 기구 및 각종 초자의 표면으로부터 제거하는데 사용되는 제품입니다. 오염이 예상되는 곳 혹은 오염원에 대한 관리가 필요한 곳에 국소적으로 분무하여 도포한 뒤, 닦아내는 간단한 제품이지만 RNase 오염의 제거에는 매우 효과적인 제품입니다. RNase WiPER™는 높은 농도의 detergent 나 발암성이 있는 DEPC 를 사용하지 않으므로 분사가 용이하며 실험자에게 비교적 안전한 제품입니다. 또한 강산을 사용하지 않으므로 안전성이 높을 뿐만 아니라 후속 실험에도 영향을 주지 않으므로 많은 연구자들의 호평을 받고 있는 제품입니다. 본 제품은 각종 RNA work 진행 시 주변 환경의 적합성 유지를 위한 제품이나, RNase inhibitor와는 다른 chemical로서 실험의 반응액 내 직접적인 투입은 금합니다.

Applications

• 01Decontamination of work space
• 02Decontamination of Glass ware
• 03Decontamination of Plastic ware(autoclavable/non-autoclavable)
• 04RNA Extraction
• 05RT/Real time RT-PCR

Kit Contents

Contents	21131
RNase WiPER™	200 ml x 2 ea

Technical Data

RNase-WiPER™ 를 실험 초자에 도포한 뒤 후속 단계에 미치는 영향을 관찰한 실험으로서 오염된 초자에 뿌리고 닦아내는 작업만으로도 효과적인 오염원 제거가 가능함을 확인하였습니다.

Lane	Sample
1	RNase WiPER 로 O/N Soaking 뒤 헹구지 않고 사용한 경우
2	RNase WiPER 로 O/N Soaking 뒤 DW 로 헹군 뒤 사용한 경우
3	RNase WiPER 와 Kimwipe 로 닦아낸 것
4	RNase WiPER 와 Kimwipe 로 닦아낸 후 DW 로 헹굼
5	Pure RNA
6	오염된 초자를 그대로 사용

DNA용액에 RNase-WiPER™ 를 처리한 후 잔여물 내에 DNA의 존재 유무를 확인한 실험으로서 RNase-WiPER™ 를 처리하는 과정만으로도 효과적인 DNA가 가능함을 알 수 있습니다.

Lane	Sample
1	RNase WiPER 처리 후 걷어 낸 뒤의 잔여물
2	RNase WiPER 처리 후 걷어낸 다음 증류수로 헹군 다음의 잔여물
3	10 μl RNase WiPER 처리 후 잔존하는 DNA
4	10 μl RNase WiPER + 1ug DNA 후 잔존하는 DNA
5	10 μl DW + 1μg DNA (control)